CIF 推出的新一代科研型等離子清洗設備，合理的結構設計，優(yōu)化的腔體尺寸，使得處理樣品更大，適用范圍更廣。 產(chǎn)品性能穩(wěn)定，操作簡單方便，易維護。

應用領域：

等離子清洗設備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、線 路板、LED、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領域，主要用 于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的。

 產(chǎn)品特點：

◆  7 寸彩色觸摸屏中英文互動操作界面，自動控制監(jiān)測工藝參數(shù)狀態(tài)，20 個配方程序，工藝數(shù)據(jù)可存儲追溯。

◆  PLC 控制整個清洗過程，手動、自動兩種工作模式。

◆  用美國德威爾（Dwyer）氣體浮子流量計或質量流量計  (CPC-FM)，可輸入氧氣、氬氣、氮氣、氫氣或混合氣等氣體，氣體控制準確。

◆  氣體返填吹掃，HEPA 高效過濾，防止二次污染。

◆  316 不銹鋼、石英真空艙可選擇，全真空管路系統(tǒng)采用316 不銹鋼材質，耐腐蝕無污染。

◆  采用 60 度傾角操作面板設計，符合人體功能學，操作方 便，界面友好。

◆  上控制下艙體結構設計，結構緊湊，占地空間小。

◆  內(nèi)凹式前面板設計，有效保護流量計和艙門不易損壞。

◆  處理快速高效均勻，無污染，工藝重復性好。

◆  樣品處理溫度低，無熱損傷和熱氧化。

◆  安全保護，艙門打開，自動關閉電源。

技術參數(shù)